1: ばーど ★ 2026/07/28(火) 12:11:07.75 ID:ID:CxpeJk1Y
これまでオランダのASMLが市場のほとんどを独占していた液浸型深紫外線(DUV)露光装置を、中国国営企業が製造する見込みだと報じられました。この報道によりASMLの株価が7%下落しました。情報を知る関係者によると、
以下略、全文はソースへ
出典元: https://gigazine.net/news/20260728-china-making-duv/
4: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:14:30.46 ID:ID:wcI7sb2V
これは日蘭から輸出規制されても何の問題もないという答えですね
偉大なる中国万歳ですわ
偉大なる中国万歳ですわ
8: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:16:20.72 ID:ID:bMZACco2
で市場で大クレームが出るまでがセット
32: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:37:47.50 ID:ID:5iuCCQOL
その製品は関税でブロックするからまた過剰生産になるんだよ
中国ってとにかく内需がショボいから
5: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:15:00.68 ID:ID:CxpeJk1Y
DUVやEUV露光装置の国産化は予想以上に早かったんでしょうね
7: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:16:02.60 ID:ID:0/rAgN3a
うまくパクったんだろ
9: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:17:37.79 ID:ID:0/rAgN3a
特許の塊の装置だが特定アジアに特許制度はないからな
10: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:17:56.60 ID:ID:8q3cgmN7
日本終わったな
48: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:52:56.09 ID:ID:EGiDCW0W
中国のメモリーやDRAMの生産で韓国が終わるぞ
12: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:19:52.84 ID:ID:FkbFQ/Us
出来たためしがあるか?
13: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:19:55.40 ID:ID:vjj0ek7o
特許侵害までがセットかな
15: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:20:57.25 ID:ID:n/aHzkcx
まるで韓国のようだ
18: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:21:29.85 ID:ID:sUpsrke2
先に書かれてた
16: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:21:13.61 ID:ID:wDgPzFfJ
ステルス機を落とせるレーダーシステムを作ったアル
19: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:22:18.46 ID:ID:fRchrOqc
Temu露光装置
22: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:26:17.72 ID:ID:7b9NucHi
出し抜いたと喜んでる中国はまんまと仕込みありの情報をパクらされたんじゃないのかな
23: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:27:01.54 ID:ID:xbhQw1qb
日本の産業は全て中国が代替できるようになる
自動車もアニメも日本から中国
自動車もアニメも日本から中国
24: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:27:42.55 ID:ID:7b9NucHi
出し抜いたと喜んでる中国はまんまと仕込みありの情報をパクらされたんじゃないのかな
26: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:31:02.94 ID:ID:bWjVK/uG
まあ作るのは良いんだけど
それ使って作った製品の歩留まりどのくらいになるんだろうね?
それ使って作った製品の歩留まりどのくらいになるんだろうね?
36: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:40:37.01 ID:ID:hAu+fVDl
こんな程度のことが中国ではニュースになるの?
51: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 12:59:23.08 ID:ID:76Ni6HVG
予定とからしいとかつもりとかまさに中国だな
54: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:01:32.77 ID:ID:isnU4P8T
DUVって要は16nm世代の装置や
DRAM生産にはデカいかもしれないが
DRAM生産にはデカいかもしれないが
55: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:03:36.35 ID:ID:76Ni6HVG
中国て優秀な人を海外から金で雇ってるけど、自国の優秀?な学生はUber Eatsとかやってるもんな
57: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:07:54.57 ID:ID:pANVgKTu
いつも実物が出てこない。
62: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:15:21.83 ID:ID:WYaxutSl
中共のDUV露光装置は2年前で65nm作れるかのレベルって話があった
そこから進歩してたとしてもせいぜい1~2世代でありましょう
そこから進歩してたとしてもせいぜい1~2世代でありましょう
72: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:32:09.39 ID:ID:Tt7WD2ZC
asmlの露光装置も100%オランダ製部品で内製してるわけでなく、中核部品に日本製の部品が使われてるんだが。
もし支那が同じ装置を作ったなら、日本の部品が不正輸出されたか、日本の素材企業のスパイ社員が支那に情報を流してるな。
もし支那が同じ装置を作ったなら、日本の部品が不正輸出されたか、日本の素材企業のスパイ社員が支那に情報を流してるな。
74: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:37:32.85 ID:ID:nI5sISxq
それな
光学レンズとか日本製だろ?
正規ルートなんだろうか
75: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:38:45.05 ID:ID:ONHWb6Ms
またメーカの機密情報をハッキング・コピーしたのかい
76: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:40:25.62 ID:ID:bEsnNrzQ
DUVは7nmよりも古い世代の半導体に使われます
79: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 13:50:30.36 ID:ID:76Ni6HVG
国産化出来ないから日本に縋ってるしな
86: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:05:30.71 ID:ID:4lHEIf3+
技術窃盗完了報告いただきました
87: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:09:51.65 ID:ID:1Nt4VYDa
しかし特許侵害てんこ盛りだと思うがなんでこっそりしとかんで発表するかね
94: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:26:51.05 ID:ID:37noB+R0
北朝鮮のチャーハンコピペみたいなもん
92: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:22:42.15 ID:ID:1Nt4VYDa
そこはかとなく中国戦闘機のコピペのかほりが
93: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:25:37.27 ID:ID:LgeRYYj3
日本が中国に輸出規制する?
どうぞやって下さい。
どうぞやって下さい。
96: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:36:13.81 ID:ID:bdvRiuGc
あ、なお、蛍石は大半が支那からの輸入アル
99: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:47:29.83 ID:ID:VwWsA2AS
凄いなぁ韓国みたい毎週国産化しそう
100: <丶`∀´>(´・ω・`)(`ハ´ )さん 2026/07/28(火) 14:52:56.80 ID:ID:6jBsQXHy
中国の泥棒力、世界からの科学・技術者の万人抗政策
(呼び寄せて一旦獲得したものは外国に流れないようにする)は侮れない。
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引用元: 【速報】中国国営企業、半導体生産に必要なDUV露光装置の製造を開始したとの報道
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DUV(ArF液浸)露光装置:ASML(オランダ)98% 支那が国産化に成功したとの報道で市場が緊迫
半導体用ポリイミド:日本企業連合(カネカ等)約80〜90% 生成AI向け半導体(先端実装)の需要爆発
超高純度フッ化水素:日本企業連合(ステラ等)約80〜90% 半導体の微細化・3D化(多層化)でさらに需要増中
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